特種氣體是光電子、微電子等領(lǐng)域，特別是超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導體發(fā)光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標和成品率，并從根本上制約著電路和器件的精確性和準確性。
應用于LED產(chǎn)業(yè)的特種氣體
半導體工業(yè)用氣體品種多、質(zhì)量要求高、用量少，大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達百余種。半導體工業(yè)特種氣體應用分類，主要包括：
2、應用于LED產(chǎn)業(yè)的特種氣體
半導體工業(yè)用氣體品種多、質(zhì)量要求高、用量少，大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達百余種。半導體工業(yè)特種氣體按照應用分類，主要包括：
1、硅族氣體：含硅基的硅烷類，如硅烷、二氯二氫硅、乙硅烷等
2、摻雜氣體：含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體，如三氯化硼、三氟化硼、磷烷、砷烷等。
3、蝕刻清洗氣體：以含鹵化物及鹵碳化合物為主，如氯氣、三氟化氮、溴化氫、四氟化碳、六氟乙烷等。
4、反應氣體：以碳系及氮系氧化物為主，如二氧化碳、氨、氧化亞氮等。
5、金屬氣相沉積氣體：含鹵化金屬及有機烷類金屬，如六氟化鎢、三甲基鎵等。
在LED產(chǎn)業(yè)鏈中，外延技術(shù)、設備和材料是外延片制造技術(shù)的關(guān)鍵。當前MOCVD工藝已成為制造絕大多數(shù)光電子材料的基本技術(shù)。外延技術(shù)需要的超純特種氣體包括高純砷烷、高純磷烷、高純氨氣，砷化鎵生產(chǎn)中應用硅烷N型摻雜，而氯化氫和氯氣常常用做蝕刻氣，氬、氫、氮則是必須的載氣。同時外延生長需要的有機源主要是三甲基鎵，三甲基銦，三甲基鋁，二乙基鋅，二甲基鋅，二茂鎂等。現(xiàn)有技術(shù)的發(fā)展對這些產(chǎn)品的品質(zhì)要求也越來越高。
瑞斯達流體為客戶設計整套特氣系統(tǒng)方案（除特氣供應），特氣設備選型、配置設計至相應配套的工藝管道布置安裝，為客戶提供符合工藝需求的特氣輸送成套系統(tǒng)，并按客戶要求進行針對空間管理及需求配置。
