CVD工藝氣體和液體輸送系統
化學氣相沉積（CVD）工藝是指半導體和太陽能行業中通常使用的一種制造程序。程序涉及從氣相將固體材料沉積到基板或晶片上。
CVD工藝的關鍵組成部分之一是氣體管道系統，該系統將氣體供應到反應室。當氣體與加熱的基材接觸時，這些氣體分解（反應）并在基材上形成固體層。
NFO技術
這種CVD工藝使制造商可以在“摻雜”步驟中添加其他材料，包括鋅。在基板上施加一層摻雜會影響其導電能力。制造NFO薄膜的第一步需要創建一種NFO溶液，該溶液由一種有機溶劑與鐵和鎳化合物結合而成。
其他步驟包括：
·在硅晶片上鋪鉑。
·將NFO解決方案引入晶圓。
·旋轉晶圓以使溶液均勻地分布在整個表面上。
·加熱晶片以溶解溶劑。
·在750攝氏度的溫度下重新加熱晶片，從而固化NFO。
據研究人員稱，CVD程序還使該材料具有靈活性，并適用于多種應用。研究人員通過在摻雜過程中添加鋅，增強了NFO在較高溫度下保持其磁性的能力。
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